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Photolithographically patterned TiO₂ films for electrolyte-gated transistors

I. Valitova, P. Kumar, X. Meng, F. Soavi, Clara Santato et Fabio Cicoira

Article de revue (2016)

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Département: Département de génie chimique
Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/35835/
Titre de la revue: ACS Applied Materials & Interfaces (vol. 8, no 23)
Maison d'édition: American Chemical Society (ACS)
DOI: 10.1021/acsami.6b01922
URL officielle: https://doi.org/10.1021/acsami.6b01922
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:06
Dernière modification: 18 avr. 2023 15:06
Citer en APA 7: Valitova, I., Kumar, P., Meng, X., Soavi, F., Santato, C., & Cicoira, F. (2016). Photolithographically patterned TiO₂ films for electrolyte-gated transistors. ACS Applied Materials & Interfaces, 8(23), 14855-14862. https://doi.org/10.1021/acsami.6b01922

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