Laser-induced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon. I. Gas-phase process model

Meunier, Michel; Flint, John H.; Haggerty, J. S.; Adler, David; Meunier, Michel; Flint, John H.; Haggerty, J. S.; Adler, David

Laser-induced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon. I. Gas-phase process model

Michel Meunier , John H. Flint, J. S. Haggerty, David Adler

Article de revue (1987)

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Département:

Département de génie physique

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/35790/

Titre de la revue :

Journal of Applied Physics ( vol. 62 , no 7 )

Maison d'édition:

American Institute of Physics

DOI:

10.1063/1.339412

URL officielle:

https://doi.org/10.1063/1.339412

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:35790

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:26

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:25

Citer en APA 7:

Meunier, M., Flint, J. H., Haggerty, J. S., & Adler, D. (1987). Laser-induced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon. I. Gas-phase process model. Journal of Applied Physics, 62(7), 2812-2812. https://doi.org/10.1063/1.339412

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