Michel Meunier, J. H. Flint, J. S. Haggerty et D. Adler
Article de revue (1987)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/35790/ |
Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 62, no 7) |
Maison d'édition: | American Institute of Physics |
DOI: | 10.1063/1.339412 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.339412 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:28 |
Citer en APA 7: | Meunier, M., Flint, J. H., Haggerty, J. S., & Adler, D. (1987). Laser-induced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon. I. Gas-phase process model. Journal of Applied Physics, 62(7), 2812-2812. https://doi.org/10.1063/1.339412 |
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