Laser-induced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon. I. Gas-phase process model

Michel Meunier, John H. Flint, J. S. Haggerty et David Adler

Article de revue (1987)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/35790/
Titre de la revue:	Journal of Applied Physics (vol. 62, no 7)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1063/1.339412
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.339412
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	08 avr. 2025 06:57

Citer en APA 7:	Meunier, M., Flint, J. H., Haggerty, J. S., & Adler, D. (1987). Laser-induced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon. I. Gas-phase process model. Journal of Applied Physics, 62(7), 2812-2812. https://doi.org/10.1063/1.339412
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