A model for the laser-induced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon

Michel Meunier, John H. Flint, David Adler, J. S. Haggerty

Communication écrite (1983)

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Nom de la conférence:
Laser-Controlled Chemical Processing of Surfaces, MRS Fall Meeting
Lieu de la conférence:
Boston, Massachusetts
Date(s) de la conférence:
1983-11-14 - 1983-11-17
Titre de la revue :
MRS Proceedings ( vol. 29 )
Maison d'édition:
Materials Research Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:35789
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:25
Citer en APA 7:
Meunier, M., Flint, J. H., Adler, D., & Haggerty, J. S. (novembre 1983). A model for the laser-induced chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon [Communication écrite]. Laser-Controlled Chemical Processing of Surfaces, MRS Fall Meeting, Boston, Massachusetts. Publié dans MRS Proceedings, 29. https://doi.org/10.1557/proc-29-397

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