Laser-Assisted Low-Temperature Deposition of WSiₓ from WF₆ and SiH₄

R. Izquierdo, Patrick Desjardins, N. Elyaagoubi, Michel Meunier

Communication écrite (1992)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Organismes subventionnaires:
Fonds pour la Formation des Chercheurs, Aide à la Recherche (FCAR) du Québec, CRSNG / NSERC
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
Chemical Perspectives of Microelectronic Materials III
Lieu de la conférence:
Boston, Mass.
Date(s) de la conférence:
1992-11-30 - 1992-12-04
Titre de la revue :
MRS Proceedings ( vol. 282 )
Maison d'édition:
Materials Research Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:35744
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:25
Citer en APA 7:
Izquierdo, R., Desjardins, P., Elyaagoubi, N., & Meunier, M. (novembre 1992). Laser-Assisted Low-Temperature Deposition of WSiₓ from WF₆ and SiH₄ [Communication écrite]. Chemical Perspectives of Microelectronic Materials III, Boston, Mass.. Publié dans MRS Proceedings, 282. https://doi.org/10.1557/proc-282-209

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document