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Interface study of hydrogenated amorphous silicon nitride on hydrogenated amorphous silicon by X-ray photoelectron spectroscopy

M. Beaudoin, C. J. Arsenault, R. Izquierdo et Michel Meunier

Article de revue (1989)

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Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/35692/
Titre de la revue: Applied Physics Letters (vol. 55, no 25)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.102299
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.102299
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:26
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:28
Citer en APA 7: Beaudoin, M., Arsenault, C. J., Izquierdo, R., & Meunier, M. (1989). Interface study of hydrogenated amorphous silicon nitride on hydrogenated amorphous silicon by X-ray photoelectron spectroscopy. Applied Physics Letters, 55(25), 2640-2640. https://doi.org/10.1063/1.102299

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