Miguel A. Arvizu, Rui-Tao Wen, Daniel Primetzhofer, Jolanta-Ewa Sapieha, Ludvik Martinu
, Gunnar A. Niklasson et Claes G. Granqvist
Article de revue (2015)
Un lien externe est disponible pour ce document| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/34521/ |
| Titre de la revue: | ACS Applied Materials & Interfaces (vol. 7, no 48) |
| Maison d'édition: | American Chemical Society (ACS) |
| DOI: | 10.1021/acsami.5b09430 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1021/acsami.5b09430 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:06 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 06:55 |
| Citer en APA 7: | Arvizu, M. A., Wen, R.-T., Primetzhofer, D., Sapieha, J.-E., Martinu, L., Niklasson, G. A., & Granqvist, C. G. (2015). Galvanostatic Ion Detrapping Rejuvenates Oxide Thin Films. ACS Applied Materials & Interfaces, 7(48), 26387-26390. https://doi.org/10.1021/acsami.5b09430 |
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