Galvanostatic Ion Detrapping Rejuvenates Oxide Thin Films

Arvizu, Miguel A.; Wen, Rui-Tao; Primetzhofer, Daniel; Sapieha, Jolanta-Ewa; Martinu, Ludvik; Niklasson, Gunnar A.; Granqvist, Claes G.; Arvizu, Miguel A.; Wen, Rui-Tao; Primetzhofer, Daniel; Sapieha, Jolanta-Ewa; Martinu, Ludvik; Niklasson, Gunnar A.; Granqvist, Claes G.

Galvanostatic Ion Detrapping Rejuvenates Oxide Thin Films

Miguel A. Arvizu, Rui-Tao Wen, Daniel Primetzhofer, Jolanta-Ewa Sapieha , Ludvik Martinu , Gunnar A. Niklasson, Claes G. Granqvist

Article de revue (2015)

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Département:

Département de génie physique

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/34521/

Titre de la revue :

ACS Applied Materials & Interfaces ( vol. 7 , no 48 )

Maison d'édition:

American Chemical Society (ACS)

DOI:

10.1021/acsami.5b09430

URL officielle:

https://doi.org/10.1021/acsami.5b09430

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:34521

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:06

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:23

Citer en APA 7:

Arvizu, M. A., Wen, R.-T., Primetzhofer, D., Sapieha, J.-E., Martinu, L., Niklasson, G. A., & Granqvist, C. G. (2015). Galvanostatic Ion Detrapping Rejuvenates Oxide Thin Films. ACS Applied Materials & Interfaces, 7(48), 26387-26390. https://doi.org/10.1021/acsami.5b09430

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