Wu Jiudong, N. Emond, A. Hendaoui, S. Delprat, M. Chaker et Ke Wu
Communication écrite (2015)
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| Département: | Département de génie électrique |
|---|---|
| Centre de recherche: | POLY-GRAMES - Centre de recherche avancée en micro-ondes et en électronique spatiale |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/34113/ |
| Nom de la conférence: | IEEE MTT-S International Microwave Workshop Series on Advanced Materials and Processes for RF and THz Applications (IMWS-AMP 2015) |
| Lieu de la conférence: | Suzhou, China |
| Date(s) de la conférence: | 2015-07-01 - 2015-07-03 |
| Maison d'édition: | IEEE |
| DOI: | 10.1109/imws-amp.2015.7324909 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1109/imws-amp.2015.7324909 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:07 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:17 |
| Citer en APA 7: | Jiudong, W., Emond, N., Hendaoui, A., Delprat, S., Chaker, M., & Wu, K. (juillet 2015). Broadband temperature-dependent dielectric properties of polycrystalline vanadium dioxide thin films [Communication écrite]. IEEE MTT-S International Microwave Workshop Series on Advanced Materials and Processes for RF and THz Applications (IMWS-AMP 2015), Suzhou, China. https://doi.org/10.1109/imws-amp.2015.7324909 |
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