Wu Jiudong, Nicolas Émond, Ali Hendaoui, S. Delprat, Mohamed Chaker et Ke Wu
Communication écrite (2015)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie électrique |
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Centre de recherche: | POLY-GRAMES - Centre de recherche avancée en micro-ondes et en électronique spatiale |
ISBN: | 9781479964505 |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/34113/ |
Nom de la conférence: | IEEE MTT-S International Microwave Workshop Series on Advanced Materials and Processes for RF and THz Applications (IMWS-AMP 2015) |
Lieu de la conférence: | Suzhou, China |
Date(s) de la conférence: | 2015-07-01 - 2015-07-03 |
Maison d'édition: | IEEE |
DOI: | 10.1109/imws-amp.2015.7324909 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1109/imws-amp.2015.7324909 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:07 |
Dernière modification: | 08 avr. 2025 12:21 |
Citer en APA 7: | Jiudong, W., Émond, N., Hendaoui, A., Delprat, S., Chaker, M., & Wu, K. (juillet 2015). Broadband temperature-dependent dielectric properties of polycrystalline vanadium dioxide thin films [Communication écrite]. IEEE MTT-S International Microwave Workshop Series on Advanced Materials and Processes for RF and THz Applications (IMWS-AMP 2015), Suzhou, China. https://doi.org/10.1109/imws-amp.2015.7324909 |
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