Critical ion energy and ion flux in the growth of films by plasma-enhanced chemical-vapor deposition

Ludvik Martinu, Jolanta-Ewa Sapieha, O. M. Kuttel, A. Raveh et Michael R. Wertheimer

Communication écrite (1993)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/33035/
Nom de la conférence:	40th National Symposium of the American Vacuum Society
Lieu de la conférence:	Orlando, FL
Date(s) de la conférence:	1993-11-15 - 1993-11-19
Titre de la revue:	Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 12, no 4, pt. 1)
Maison d'édition:	American Vacuum Society
DOI:	10.1116/1.579322
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.579322
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:25
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:23

Citer en APA 7:

Martinu, L., Sapieha, J.-E., Kuttel, O. M., Raveh, A., & Wertheimer, M. R. (novembre 1993). Critical ion energy and ion flux in the growth of films by plasma-enhanced chemical-vapor deposition [Communication écrite]. 40th National Symposium of the American Vacuum Society, Orlando, FL. Publié dans Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 12(4, pt. 1). https://doi.org/10.1116/1.579322

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