Ludvik Martinu
, Jolanta-Ewa Sapieha, O. M. Küttel, A. Raveh, Michael R. Wertheimer
Communication écrite (1993)
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Département:
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Nom de la conférence:
40th National Symposium of the American Vacuum Society
Lieu de la conférence:
Orlando, FL
Date(s) de la conférence:
1993-11-15 - 1993-11-19
Titre de la revue
:
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films
(
vol.
12
,
no
4, pt. 1
)
Maison d'édition:
American Vacuum Society
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:33035
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:25
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:21
Citer en APA 7:
Martinu, L., Sapieha, J.-E., Küttel, O. M., Raveh, A., & Wertheimer, M. R. (novembre 1993). Critical ion energy and ion flux in the growth of films by plasma-enhanced chemical-vapor deposition [Communication écrite]. 40th National Symposium of the American Vacuum Society, Orlando, FL. Publié dans Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 12(4, pt. 1). https://doi.org/10.1116/1.579322
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