Dual-frequency plasma deposition of high quality insulating thin films

Ludvik Martinu, Jolanta-Ewa Sapieha, Michael R. Wertheimer

Communication écrite (1994)

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Nom de la conférence:
4th IEEE International Conference on Properties and Applications of Dielectric Materials
Lieu de la conférence:
Brisbane, Aust
Date(s) de la conférence:
1994-07-03 - 1994-07-08
Maison d'édition:
IEEE
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:33034
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:25
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:21
Citer en APA 7:
Martinu, L., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (juillet 1994). Dual-frequency plasma deposition of high quality insulating thin films [Communication écrite]. 4th IEEE International Conference on Properties and Applications of Dielectric Materials, Brisbane, Aust. https://doi.org/10.1109/icpadm.1994.413980

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