Ludvik Martinu
, Jolanta-Ewa Sapieha et Michael R. Wertheimer
Communication écrite (1994)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/33034/ |
| Nom de la conférence: | 4th IEEE International Conference on Properties and Applications of Dielectric Materials |
| Lieu de la conférence: | Brisbane, Aust |
| Date(s) de la conférence: | 1994-07-03 - 1994-07-08 |
| Maison d'édition: | IEEE |
| DOI: | 10.1109/icpadm.1994.413980 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1109/icpadm.1994.413980 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:25 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:23 |
| Citer en APA 7: | Martinu, L., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (juillet 1994). Dual-frequency plasma deposition of high quality insulating thin films [Communication écrite]. 4th IEEE International Conference on Properties and Applications of Dielectric Materials, Brisbane, Aust. https://doi.org/10.1109/icpadm.1994.413980 |
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