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Performance of interface engineered SiNₓ/ICL/InP/In₀.₅₃Ga₀.₄₇As/InP doped channel HIGFET's

C. S. Sundararaman et John F. Currie

Article de revue (1995)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/31704/
Titre de la revue: IEEE Electron Device Letters (vol. 16, no 12)
Maison d'édition: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/55.475585
URL officielle: https://doi.org/10.1109/55.475585
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:25
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:21
Citer en APA 7: Sundararaman, C. S., & Currie, J. F. (1995). Performance of interface engineered SiNₓ/ICL/InP/In₀.₅₃Ga₀.₄₇As/InP doped channel HIGFET's. IEEE Electron Device Letters, 16(12), 554-556. https://doi.org/10.1109/55.475585

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