Performance of interface engineered SiNₓ/ICL/InP/In₀.₅₃Ga₀.₄₇As/InP doped channel HIGFET's

C. S. Sundararaman, John F. Currie

Article de revue (1995)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Organismes subventionnaires:
NSERC, FCAR Device Team and Research Center
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
IEEE Electron Device Letters ( vol. 16 , no 12 )
Maison d'édition:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:31704
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:25
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:19
Citer en APA 7:
Sundararaman, C. S., & Currie, J. F. (1995). Performance of interface engineered SiNₓ/ICL/InP/In₀.₅₃Ga₀.₄₇As/InP doped channel HIGFET's. IEEE Electron Device Letters, 16(12), 554-556. https://doi.org/10.1109/55.475585

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document