N. Bertrand, B. Drévillon, Jolanta-Ewa Sapieha
et Ludvik Martinu
Communication écrite (1996)
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| Département: | Département de génie physique |
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| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/31501/ |
| Nom de la conférence: | 23rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF"96) |
| Lieu de la conférence: | San Diego, CA, USA |
| Date(s) de la conférence: | 1996-04-22 - 1996-04-26 |
| Titre de la revue: | Thin solid films (vol. 290-291) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/s0040-6090(96)09179-1 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2896%2909179-1 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:24 |
| Dernière modification: | 03 oct. 2024 15:51 |
| Citer en APA 7: | Bertrand, N., Drévillon, B., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (avril 1996). In situ IR ellipsometry study of the adhesion and growth of plasma deposited silica thin films on stainless steel substrates [Communication écrite]. 23rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF"96), San Diego, CA, USA. Publié dans Thin solid films, 290-291. https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2896%2909179-1 |
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