C. F. M. Borges, S. Schelz, L. St Onge, M. Moisan et Ludvik Martinu
Article de revue (1996)
Un lien externe est disponible pour ce document
| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/31482/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 79, no 6) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.361228 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.361228 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:24 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:13 |
| Citer en APA 7: | Borges, C. F. M., Schelz, S., St Onge, L., Moisan, M., & Martinu, L. (1996). Silicon contamination of diamond films deposited on silicon substrates in fused silica based reactors. Journal of Applied Physics, 79(6), 3290-3298. https://doi.org/10.1063/1.361228 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
