D. Drouin, J. Beauvais, R. Lemire, E. Lavallée, Raymond Gauvin et M. Caron
Article de revue (1997)
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| Département: | Département de génie mécanique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/30509/ |
| Titre de la revue: | Applied Physics Letters (vol. 70, no 22) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.118736 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.118736 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:19 |
| Citer en APA 7: | Drouin, D., Beauvais, J., Lemire, R., Lavallée, E., Gauvin, R., & Caron, M. (1997). Method for fabricating submicron silicide structures on silicon using a resistless electron beam lithography process. Applied Physics Letters, 70(22), 3020-3022. https://doi.org/10.1063/1.118736 |
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