D. Drouin, J. Beauvais, R. Lemire, E. Lavallée, Raymond Gauvin, M. Caron
Article de revue (1997)
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Titre de la revue
:
Applied Physics Letters
(
vol.
70
,
no
22
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:30509
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:17
Citer en APA 7:
Drouin, D., Beauvais, J., Lemire, R., Lavallée, E., Gauvin, R., & Caron, M. (1997). Method for fabricating submicron silicide structures on silicon using a resistless electron beam lithography process. Applied Physics Letters, 70(22), 3020-3022. https://doi.org/10.1063/1.118736
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