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Method for fabricating submicron silicide structures on silicon using a resistless electron beam lithography process

D. Drouin, J. Beauvais, R. Lemire, E. Lavallée, Raymond Gauvin et M. Caron

Article de revue (1997)

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Département: Département de génie mécanique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/30509/
Titre de la revue: Applied Physics Letters (vol. 70, no 22)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.118736
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.118736
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:23
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:12
Citer en APA 7: Drouin, D., Beauvais, J., Lemire, R., Lavallée, E., Gauvin, R., & Caron, M. (1997). Method for fabricating submicron silicide structures on silicon using a resistless electron beam lithography process. Applied Physics Letters, 70(22), 3020-3022. https://doi.org/10.1063/1.118736

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