D. Drouin, J. Beauvais, R. Lemire, E. Lavallée, Raymond Gauvin et M. Caron
Article de revue (1997)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie mécanique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/30509/ |
Titre de la revue: | Applied Physics Letters (vol. 70, no 22) |
Maison d'édition: | American Institute of Physics |
DOI: | 10.1063/1.118736 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.118736 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:12 |
Citer en APA 7: | Drouin, D., Beauvais, J., Lemire, R., Lavallée, E., Gauvin, R., & Caron, M. (1997). Method for fabricating submicron silicide structures on silicon using a resistless electron beam lithography process. Applied Physics Letters, 70(22), 3020-3022. https://doi.org/10.1063/1.118736 |
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