Excimer Laser Cleaning of Silicon Wafer Backside Metallic Particles

F. Beaudoin, Michel Meunier, M. Simard-Normandin, D. Landheer

Article de revue (1998)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films ( vol. 16 , no 3 )
Maison d'édition:
American Vacuum Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:29865
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:07
Citer en APA 7:
Beaudoin, F., Meunier, M., Simard-Normandin, M., & Landheer, D. (1998). Excimer Laser Cleaning of Silicon Wafer Backside Metallic Particles. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(3), 1976-1979. https://doi.org/10.1116/1.581206

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document