F. Beaudoin, Michel Meunier
, M. Simard-Normandin et D. Landheer
Article de revue (1998)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29865/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 16, no 3) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.581206 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.581206 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:11 |
| Citer en APA 7: | Beaudoin, F., Meunier, M., Simard-Normandin, M., & Landheer, D. (1998). Excimer Laser Cleaning of Silicon Wafer Backside Metallic Particles. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(3), 1976-1979. https://doi.org/10.1116/1.581206 |
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