Laser-Induced Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) of Cu(hfac)(TMVS) on Amorphous Teflon AF1600: an XPS Study of the Interface

Popovici, D.; Czeremuzkin, G.; Meunier, Michel; Sacher, Edward; Popovici, D.; Czeremuzkin, G.; Meunier, Michel; Sacher, Edward

Laser-Induced Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) of Cu(hfac)(TMVS) on Amorphous Teflon AF1600: an XPS Study of the Interface

D. Popovici, G. Czeremuzkin, Michel Meunier , Edward Sacher

Article de revue (1998)

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Renseignements supplémentaires:

Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux

Département:

Département de génie physique

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/29407/

Titre de la revue :

Applied Surface Science ( vol. 126 , no 3-4 )

Maison d'édition:

Elsevier

DOI:

10.1016/s0169-4332(98)00009-9

URL officielle:

https://doi.org/10.1016/s0169-4332%2898%2900009-9

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:29407

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:23

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:06

Citer en APA 7:

Popovici, D., Czeremuzkin, G., Meunier, M., & Sacher, E. (1998). Laser-Induced Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) of Cu(hfac)(TMVS) on Amorphous Teflon AF1600: an XPS Study of the Interface. Applied Surface Science, 126(3-4), 198-204. https://doi.org/10.1016/s0169-4332%2898%2900009-9

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