Photodegradation of Teflon AF1600 During XPS Analysis

D. Popovici, Edward Sacher, Michel Meunier

Article de revue (1998)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Journal of Applied Polymer Science ( vol. 70 , no 6 )
Maison d'édition:
Wiley
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:29403
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:06
Citer en APA 7:
Popovici, D., Sacher, E., & Meunier, M. (1998). Photodegradation of Teflon AF1600 During XPS Analysis. Journal of Applied Polymer Science, 70(6), 1201-1207. https://doi.org/10.1002/%28sici%291097-4628%2819981107%2970%3a6%3c1201%3a%3aaid-app17%3e3.0.co%3b2-1

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