Structural changes in a-Si:H studied by X-ray photoemission spectroscopy

Shuran Sheng, Edward Sacher, Arthur Yelon, Howard M. Branz et Denis P. Masson

Communication écrite (1999)

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Renseignements supplémentaires:	Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/28598/
Nom de la conférence:	1999 MRS Spring Meeting - Symposium A 'Amorphous and Heterogenous Silicon Thin Films: Fundamentals to Devices'
Lieu de la conférence:	San Francisco, CA
Date(s) de la conférence:	1999-04-05 - 1999-04-09
Titre de la revue:	Materials Research Society Symposium - Proceedings (vol. 557)
Maison d'édition:	Materials Research Society
DOI:	10.1557/proc-557-359
URL officielle:	https://doi.org/10.1557/proc-557-359
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:	08 avr. 2025 02:18

Citer en APA 7:

Sheng, S., Sacher, E., Yelon, A., Branz, H. M., & Masson, D. P. (avril 1999). Structural changes in a-Si:H studied by X-ray photoemission spectroscopy [Communication écrite]. 1999 MRS Spring Meeting - Symposium A 'Amorphous and Heterogenous Silicon Thin Films: Fundamentals to Devices', San Francisco, CA. Publié dans Materials Research Society Symposium - Proceedings, 557. https://doi.org/10.1557/proc-557-359

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