Shuran Sheng, Edward Sacher, Arthur Yelon, Howard M. Branz et Denis P. Masson
Communication écrite (1999)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/28598/ |
Nom de la conférence: | 1999 MRS Spring Meeting - Symposium A 'Amorphous and Heterogenous Silicon Thin Films: Fundamentals to Devices' |
Lieu de la conférence: | San Francisco, CA |
Date(s) de la conférence: | 1999-04-05 - 1999-04-09 |
Titre de la revue: | Materials Research Society Symposium - Proceedings (vol. 557) |
Maison d'édition: | Materials Research Society |
DOI: | 10.1557/proc-557-359 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1557/proc-557-359 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:09 |
Citer en APA 7: | Sheng, S., Sacher, E., Yelon, A., Branz, H. M., & Masson, D. P. (avril 1999). Structural changes in a-Si:H studied by X-ray photoemission spectroscopy [Communication écrite]. 1999 MRS Spring Meeting - Symposium A 'Amorphous and Heterogenous Silicon Thin Films: Fundamentals to Devices', San Francisco, CA. Publié dans Materials Research Society Symposium - Proceedings, 557. https://doi.org/10.1557/proc-557-359 |
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