Jaroslav Vlcek, Karel Rusnak, Vaclav Hajek, Ludvik Martinu
Article de revue (1999)
Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Journal of Applied Physics
(
vol.
86
,
no
7
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:28508
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:05
Citer en APA 7:
Vlcek, J., Rusnak, K., Hajek, V., & Martinu, L. (1999). Reactive magnetron sputtering of CNₓ films : Ion bombardment effects and process characterization using optical emission spectroscopy. Journal of Applied Physics, 86(7), 3646-3654. https://doi.org/10.1063/1.371273
Statistiques
Dimensions
