Jaroslav Vlcek, Karel Rusnak, Vaclav Hajek et Ludvik Martinu
Article de revue (1999)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/28508/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 86, no 7) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.371273 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.371273 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:16 |
| Citer en APA 7: | Vlcek, J., Rusnak, K., Hajek, V., & Martinu, L. (1999). Reactive magnetron sputtering of CNₓ films : Ion bombardment effects and process characterization using optical emission spectroscopy. Journal of Applied Physics, 86(7), 3646-3654. https://doi.org/10.1063/1.371273 |
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