Effects of deposition and post-fabrication conditions on photoluminescent properties of nanostructured Si/SiOₓ films prepared by laser ablation

A. V. Kabashin, M. Charbonneau-Lefort, Michel Meunier et R. Leonelli

Communication écrite (2000)

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Renseignements supplémentaires:	Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/28095/
Nom de la conférence:	European Materials Research Society 2000 Spring Meeting , Symposium D: Photon-induced Material Processing
Lieu de la conférence:	Strasbourg, France
Date(s) de la conférence:	2000-05-30 - 2000-06-02
Titre de la revue:	Applied Surface Science (vol. 168, no 1-4)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/s0169-4332(00)00780-7
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/s0169-4332%2800%2900780-7
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:16

Citer en APA 7:

Kabashin, A. V., Charbonneau-Lefort, M., Meunier, M., & Leonelli, R. (mai 2000). Effects of deposition and post-fabrication conditions on photoluminescent properties of nanostructured Si/SiOₓ films prepared by laser ablation [Communication écrite]. European Materials Research Society 2000 Spring Meeting , Symposium D: Photon-induced Material Processing, Strasbourg, France. Publié dans Applied Surface Science, 168(1-4). https://doi.org/10.1016/s0169-4332%2800%2900780-7

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