A. Rubinshtein, R. Shneck, A. Raveh, Jolanta-Ewa Sapieha
, Ludvik Martinu
Article de revue (2000)
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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films
(
vol.
18
,
no
4
)
Maison d'édition:
American Vacuum Society
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27867
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:04
Citer en APA 7:
Rubinshtein, A., Shneck, R., Raveh, A., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2000). Carburizing of Tantalum by Radio-Frequency Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 18(4), 2017-2022. https://doi.org/10.1116/1.582465
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