A. Rubinshtein, R. Shneck, A. Raveh, Jolanta-Ewa Sapieha
et Ludvik Martinu
Article de revue (2000)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27867/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 18, no 4) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.582465 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.582465 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:08 |
| Citer en APA 7: | Rubinshtein, A., Shneck, R., Raveh, A., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2000). Carburizing of Tantalum by Radio-Frequency Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 18(4), 2017-2022. https://doi.org/10.1116/1.582465 |
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