<  Retour au portail Polytechnique Montréal

Simulation of picosecond pulsed laser ablation of silicon: The molecular-dynamics thermal-annealing model

P. Lorazo, L. J. Lewis et Michel Meunier

Communication écrite (2001)

Un lien externe est disponible pour ce document
Renseignements supplémentaires: Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/27237/
Nom de la conférence: Commercial and Biomedical Applications of Ultrashort Pulse Lasers; Laser Plasma Generation and Diagnostics
Lieu de la conférence: San Jose, CA, United States
Date(s) de la conférence: 2001-01-01 - 2001-12-31
Maison d'édition: SPIE - International Society for Optical Engineering
DOI: 10.1117/12.428006
URL officielle: https://doi.org/10.1117/12.428006
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:21
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:14
Citer en APA 7: Lorazo, P., Lewis, L. J., & Meunier, M. (janvier 2001). Simulation of picosecond pulsed laser ablation of silicon: The molecular-dynamics thermal-annealing model [Communication écrite]. Commercial and Biomedical Applications of Ultrashort Pulse Lasers; Laser Plasma Generation and Diagnostics, San Jose, CA, United States. https://doi.org/10.1117/12.428006

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document