A. Raveh, A. Danon, Joseph Hayon, A. Rubinshtein, R. Shneck, Jolanta-Ewa Sapieha
, Ludvik Martinu
Article de revue (2001)
Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Thin Solid Films
(
vol.
392
,
no
1
)
Maison d'édition:
Elsevier
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27108
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:21
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:02
Citer en APA 7:
Raveh, A., Danon, A., Hayon, J., Rubinshtein, A., Shneck, R., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2001). Characterization of Carburized Tantalum Layers Prepared in Inductive Rf Plasma. Thin Solid Films, 392(1), 56-64. https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2801%2901004-5
Statistiques
Dimensions
