A. Raveh, A. Danon, J. Hayon, A. Rubinshtein, R. Shneck, Jolanta-Ewa Sapieha
et Ludvik Martinu
Article de revue (2001)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27108/ |
| Titre de la revue: | Thin Solid Films (vol. 392, no 1) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/s0040-6090(01)01004-5 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2801%2901004-5 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:21 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:14 |
| Citer en APA 7: | Raveh, A., Danon, A., Hayon, J., Rubinshtein, A., Shneck, R., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2001). Characterization of Carburized Tantalum Layers Prepared in Inductive Rf Plasma. Thin Solid Films, 392(1), 56-64. https://doi.org/10.1016/s0040-6090%2801%2901004-5 |
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