Effect of unintentionally introduced oxygen on the electron-cyclotron resonance chemical-vapor deposition of SiNₓ films

P. Cova, Rémo A. Masut, Olivier Grenier et Suzie Poulin

Article de revue (2002)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/26715/
Titre de la revue:	Journal of Applied Physics (vol. 92, no 1)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1063/1.1483902
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.1483902
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:20
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:13

Citer en APA 7:	Cova, P., Masut, R. A., Grenier, O., & Poulin, S. (2002). Effect of unintentionally introduced oxygen on the electron-cyclotron resonance chemical-vapor deposition of SiNₓ films. Journal of Applied Physics, 92(1), 129-138. https://doi.org/10.1063/1.1483902
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