Effect of unintentionally introduced oxygen on the electron-cyclotron resonance chemical-vapor deposition of SiNₓ films

P. Cova, Rémo A. Masut, Olivier Grenier, Suzie Poulin

Article de revue (2002)

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Titre de la revue :
Journal of Applied Physics ( vol. 92 , no 1 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:26715
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:20
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:02
Citer en APA 7:
Cova, P., Masut, R. A., Grenier, O., & Poulin, S. (2002). Effect of unintentionally introduced oxygen on the electron-cyclotron resonance chemical-vapor deposition of SiNₓ films. Journal of Applied Physics, 92(1), 129-138. https://doi.org/10.1063/1.1483902

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