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Développement et caractérisation d'un procédé de fabrication 0.8 micron CMOS sur substrat SOI

Stéphane Martel

Mémoire de maîtrise (2002)

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Département: Département de génie physique
Directeurs ou directrices: Arthur Yelon et Michel Meunier
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/26445/
Université/École: École Polytechnique de Montréal
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:20
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:07
Citer en APA 7: Martel, S. (2002). Développement et caractérisation d'un procédé de fabrication 0.8 micron CMOS sur substrat SOI [Mémoire de maîtrise, École Polytechnique de Montréal].

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