Ar+-Induced Surface Defects on HOPG and Their Effect on the Nucleation, Coalescence and Growth of Evaporated Copper

Yang, D.-Q.; Sacher, Edward; Yang, D.-Q.; Sacher, Edward

Ar+-Induced Surface Defects on HOPG and Their Effect on the Nucleation, Coalescence and Growth of Evaporated Copper

D.-Q. Yang, Edward Sacher

Article de revue (2002)

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Département:

Département de génie physique

Unité de recherche:

GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/26187/

Titre de la revue :

Surface Science ( vol. 516 , no 1-2 )

Maison d'édition:

Elsevier

DOI:

10.1016/s0039-6028(02)02065-4

URL officielle:

https://doi.org/10.1016/s0039-6028%2802%2902065-4

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:26187

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:21

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:01

Citer en APA 7:

Yang, D.-Q., & Sacher, E. (2002). Ar+-Induced Surface Defects on HOPG and Their Effect on the Nucleation, Coalescence and Growth of Evaporated Copper. Surface Science, 516(1-2), 43-55. https://doi.org/10.1016/s0039-6028%2802%2902065-4

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