Ar+-Induced Surface Defects on HOPG and Their Effect on the Nucleation, Coalescence and Growth of Evaporated Copper

D.-Q. Yang et Edward Sacher

Article de revue (2002)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/26187/
Titre de la revue:	Surface Science (vol. 516, no 1-2)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/s0039-6028(02)02065-4
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/s0039-6028%2802%2902065-4
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:21
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:13

Citer en APA 7:	Yang, D.-Q., & Sacher, E. (2002). Ar+-Induced Surface Defects on HOPG and Their Effect on the Nucleation, Coalescence and Growth of Evaporated Copper. Surface Science, 516(1-2), 43-55. https://doi.org/10.1016/s0039-6028%2802%2902065-4
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