<  Retour au portail Polytechnique Montréal

A simple analytical method for the characterization of the melt region of a semiconductor under focused laser irradiation

Jean-Yves Degorce, Antoine Saucier et Michel Meunier

Communication écrite (2002)

Un lien externe est disponible pour ce document
Département: Département de génie physique
Département de mathématiques et de génie industriel
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/25971/
Nom de la conférence: European Materials Research Society conference on Physics and Chemistry of Advanced Laser Materials Processing
Lieu de la conférence: Strasbourg, France
Date(s) de la conférence: 2002-06-18 - 2002-06-21
Titre de la revue: Applied Surface Science (vol. 208-209)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/s0169-4332(02)01350-8
URL officielle: https://doi.org/10.1016/s0169-4332%2802%2901350-8
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:19
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:12
Citer en APA 7: Degorce, J.-Y., Saucier, A., & Meunier, M. (juin 2002). A simple analytical method for the characterization of the melt region of a semiconductor under focused laser irradiation [Communication écrite]. European Materials Research Society conference on Physics and Chemistry of Advanced Laser Materials Processing, Strasbourg, France. Publié dans Applied Surface Science, 208-209. https://doi.org/10.1016/s0169-4332%2802%2901350-8

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document