Jean-Yves Degorce, Antoine Saucier
et Michel Meunier
Communication écrite (2002)
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| Département: |
Département de génie physique Département de mathématiques et de génie industriel |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/25971/ |
| Nom de la conférence: | European Materials Research Society conference on Physics and Chemistry of Advanced Laser Materials Processing |
| Lieu de la conférence: | Strasbourg, France |
| Date(s) de la conférence: | 2002-06-18 - 2002-06-21 |
| Titre de la revue: | Applied Surface Science (vol. 208-209) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/s0169-4332(02)01350-8 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/s0169-4332%2802%2901350-8 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:19 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:06 |
| Citer en APA 7: | Degorce, J.-Y., Saucier, A., & Meunier, M. (juin 2002). A simple analytical method for the characterization of the melt region of a semiconductor under focused laser irradiation [Communication écrite]. European Materials Research Society conference on Physics and Chemistry of Advanced Laser Materials Processing, Strasbourg, France. Publié dans Applied Surface Science, 208-209. https://doi.org/10.1016/s0169-4332%2802%2901350-8 |
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