G. Dennler, A. Houdayer, P. Raynaud, I. Séguy, Y. Ségui, Michael R. Wertheimer
Article de revue (2003)
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Titre de la revue
:
Plasmas and Polymers
(
vol.
8
,
no
1
)
Maison d'édition:
Kluwer Academic Publishers
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:25962
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:01
Citer en APA 7:
Dennler, G., Houdayer, A., Raynaud, P., Séguy, I., Ségui, Y., & Wertheimer, M. R. (2003). Growth Modes of Sioₓ Films Deposited by Evaporation and Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition on Polymeric Substrates. Plasmas and Polymers, 8(1), 43-59. https://doi.org/10.1023/a%3a1022865825205
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