G. Dennler, A. Houdayer, P. Raynaud, I. Seguy, Y. Segui et Michael R. Wertheimer
Article de revue (2003)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/25962/ |
| Titre de la revue: | Plasmas and Polymers (vol. 8, no 1) |
| Maison d'édition: | Kluwer Academic Publishers |
| DOI: | 10.1023/a:1022865825205 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1023/a%3a1022865825205 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:19 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:12 |
| Citer en APA 7: | Dennler, G., Houdayer, A., Raynaud, P., Seguy, I., Segui, Y., & Wertheimer, M. R. (2003). Growth Modes of Sioₓ Films Deposited by Evaporation and Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition on Polymeric Substrates. Plasmas and Polymers, 8(1), 43-59. https://doi.org/10.1023/a%3a1022865825205 |
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