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Quaternary hard nanocomposite TiCₓNy/SiCN coatings prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

P. Jedrzejowski, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2004)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/24942/
Titre de la revue: Thin Solid Films (vol. 466, no 1-2)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/j.tsf.2004.03.043
URL officielle: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.03.043
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:19
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:04
Citer en APA 7: Jedrzejowski, P., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2004). Quaternary hard nanocomposite TiCₓNy/SiCN coatings prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films, 466(1-2), 189-196. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.03.043

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