Quaternary hard nanocomposite TiCₓNy/SiCN coatings prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

P. Jedrzejowski, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2004)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/24942/
Titre de la revue:	Thin Solid Films (vol. 466, no 1-2)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/j.tsf.2004.03.043
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.03.043
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:10

Citer en APA 7:	Jedrzejowski, P., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2004). Quaternary hard nanocomposite TiCₓNy/SiCN coatings prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films, 466(1-2), 189-196. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.03.043
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