Microstructure of plasma-deposited SiO₂/TiO₂ optical films

S. Larouche, H. Szymanowski, Jolanta-Ewa Sapieha, Ludvik Martinu et S. C. Gujrathi

Article de revue (2004)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/24871/
Titre de la revue:	Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 22, no 4)
Maison d'édition:	American Vacuum Society
DOI:	10.1116/1.1763912
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.1763912
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:10

Citer en APA 7:	Larouche, S., Szymanowski, H., Sapieha, J.-E., Martinu, L., & Gujrathi, S. C. (2004). Microstructure of plasma-deposited SiO₂/TiO₂ optical films. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 22(4), 1200-1207. https://doi.org/10.1116/1.1763912
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