Modeling the laser-induced diffusible resistance process

Michel Meunier, Jean-Yves Degorce, Jean-Numa Gillet, François Magny

Communication écrite (2004)

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Nom de la conférence:
Photon processing in microelectronics and photonics III
Lieu de la conférence:
San Jose, CA, USA
Date(s) de la conférence:
2004-01-26 - 2004-01-29
Maison d'édition:
SPIE - International Society for Optical Engineering
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:24797
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:
14 oct. 2026 12:59
Citer en APA 7:
Meunier, M., Degorce, J.-Y., Gillet, J.-N., & Magny, F. (janvier 2004). Modeling the laser-induced diffusible resistance process [Communication écrite]. Photon processing in microelectronics and photonics III, San Jose, CA, USA. https://doi.org/10.1117/12.525512

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