Modeling the laser-induced diffusible resistance process

Michel Meunier, Jean-Yves Degorce, Jean-Numa Gillet et François Magny

Communication écrite (2004)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/24797/
Nom de la conférence:	Photon processing in microelectronics and photonics III
Lieu de la conférence:	San Jose, CA, USA
Date(s) de la conférence:	2004-01-26 - 2004-01-29
Maison d'édition:	SPIE - International Society for Optical Engineering
DOI:	10.1117/12.525512
URL officielle:	https://doi.org/10.1117/12.525512
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:	25 sept. 2024 16:04

Citer en APA 7:	Meunier, M., Degorce, J.-Y., Gillet, J.-N., & Magny, F. (janvier 2004). Modeling the laser-induced diffusible resistance process [Communication écrite]. Photon processing in microelectronics and photonics III, San Jose, CA, USA. https://doi.org/10.1117/12.525512
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