P. Cova, Suzie Poulin, Rémo A. Masut
Article de revue (2005)
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Département:
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Titre de la revue
:
Journal of Applied Physics
(
vol.
98
,
no
9
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:24246
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:18
Dernière modification:
14 oct. 2026 12:58
Citer en APA 7:
Cova, P., Poulin, S., & Masut, R. A. (2005). X-Ray Photoelectron Spectroscopy and Structural Analysis of Amorphous Si OₓNy Films Deposited at Low Temperatures. Journal of Applied Physics, 98(9). https://doi.org/10.1063/1.2113415
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