P. Cova, Suzie Poulin et Rémo A. Masut
Article de revue (2005)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/24246/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 98, no 9) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.2113415 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.2113415 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:18 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:09 |
| Citer en APA 7: | Cova, P., Poulin, S., & Masut, R. A. (2005). X-Ray Photoelectron Spectroscopy and Structural Analysis of Amorphous Si OₓNy Films Deposited at Low Temperatures. Journal of Applied Physics, 98(9). https://doi.org/10.1063/1.2113415 |
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