Jean-Numa Gillet, Jean-Yves Degorce et Michel Meunier
Article de revue (2005)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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Organismes subventionnaires: | NSERC/CRSNG |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/24118/ |
Titre de la revue: | Applied Physics Letters (vol. 86, no 22) |
Maison d'édition: | American Institute of Physics |
DOI: | 10.1063/1.1927275 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.1927275 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:18 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:03 |
Citer en APA 7: | Gillet, J.-N., Degorce, J.-Y., & Meunier, M. (2005). General Model and Segregation Coefficient Measurement for Ultrashallow Doping by Excimer Laser Annealing. Applied Physics Letters, 86(22). https://doi.org/10.1063/1.1927275 |
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