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General Model and Segregation Coefficient Measurement for Ultrashallow Doping by Excimer Laser Annealing

Jean-Numa Gillet, Jean-Yves Degorce et Michel Meunier

Article de revue (2005)

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Département: Département de génie physique
Organismes subventionnaires: NSERC/CRSNG
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/24118/
Titre de la revue: Applied Physics Letters (vol. 86, no 22)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.1927275
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.1927275
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:18
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:03
Citer en APA 7: Gillet, J.-N., Degorce, J.-Y., & Meunier, M. (2005). General Model and Segregation Coefficient Measurement for Ultrashallow Doping by Excimer Laser Annealing. Applied Physics Letters, 86(22). https://doi.org/10.1063/1.1927275

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