Room temperature air oxidation of nanostructured Si thin films with varying porosities as studied by X-ray photoelectron spectroscopy

D.-Q. Yang, Michel Meunier, Edward Sacher

Article de revue (2006)

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Titre de la revue :
Journal of Applied Physics ( vol. 99 , no 8 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:22383
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:18
Dernière modification:
14 oct. 2026 12:55
Citer en APA 7:
Yang, D.-Q., Meunier, M., & Sacher, E. (2006). Room temperature air oxidation of nanostructured Si thin films with varying porosities as studied by X-ray photoelectron spectroscopy. Journal of Applied Physics, 99(8), 084315-1-084315-6. https://doi.org/10.1063/1.2193168

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