Optical and Chemical Characterization of Expanding Thermal Plasma-Deposited Carbon-Containing Silicon Dioxide-Like Films

M. Creatore, S. M. Rieter, Y. Barrell, M. C. M. Van De Sanden, R. Vernhes, Ludvik Martinu

Article de revue (2008)

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Département:
Département de génie physique
Unité de recherche:
RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/20918/
Titre de la revue :
Thin Solid Films ( vol. 516 , no 23 )
Maison d'édition:
Elsevier
DOI:
10.1016/j.tsf.2008.05.022
URL officielle:
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.05.022
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:20918
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:15
Dernière modification:
14 oct. 2026 12:53
Citer en APA 7:
Creatore, M., Rieter, S. M., Barrell, Y., Van De Sanden, M. C. M., Vernhes, R., & Martinu, L. (2008). Optical and Chemical Characterization of Expanding Thermal Plasma-Deposited Carbon-Containing Silicon Dioxide-Like Films. Thin Solid Films, 516(23), 8547-8553. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.05.022

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