Optical and Chemical Characterization of Expanding Thermal Plasma-Deposited Carbon-Containing Silicon Dioxide-Like Films

M. Creatore, S. M. Rieter, Y. Barrell, M. C. M. Van De Sanden, R. Vernhes et Ludvik Martinu

Article de revue (2008)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/20918/
Titre de la revue:	Thin Solid Films (vol. 516, no 23)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/j.tsf.2008.05.022
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.05.022
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:15
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:04

Citer en APA 7:	Creatore, M., Rieter, S. M., Barrell, Y., Van De Sanden, M. C. M., Vernhes, R., & Martinu, L. (2008). Optical and Chemical Characterization of Expanding Thermal Plasma-Deposited Carbon-Containing Silicon Dioxide-Like Films. Thin Solid Films, 516(23), 8547-8553. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.05.022
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