A. Anders, J. Capek, M. Hala et Ludvik Martinu
Article de revue (2012)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/15881/ |
Titre de la revue: | Journal of Physics D: Applied Physics (vol. 45, no 1) |
Maison d'édition: | IOP Publishing |
DOI: | 10.1088/0022-3727/45/1/012003 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1088/0022-3727/45/1/012003 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:10 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 15:53 |
Citer en APA 7: | Anders, A., Capek, J., Hala, M., & Martinu, L. (2012). The 'Recycling Trap': a Generalized Explanation of Discharge Runaway in High-Power Impulse Magnetron Sputtering. Journal of Physics D: Applied Physics, 45(1), 5-5. https://doi.org/10.1088/0022-3727/45/1/012003 |
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