Documents publiés en "2005"

Département de génie physique

Coia, C., Lavoie, C., D'Heurle, F. M., Detavernier, C., Desjardins, P., & Kellock, A. J. (mai 2005). Reactive diffusion in the Ni-Si system: Influence of Ni thickness on the phase formation sequence [Communication écrite]. 207th Meeting of the Electrochemical Society, Québec, Canada. Lien externe