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Documents dont l'auteur est "Rousseaux, F."

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1993

Diawara, Y., Lafontaine, H., Chaker, M., Kieffer, J. C., Pépin, H., Cochrane, R. W., Currie, J. F., Haghiri-Gosnet, A.-M., Ravet, M. F., & Rousseaux, F. (1993). Rapid thermal annealing for reducing stress in tungsten x-ray mask absorber. Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena, 11(2), 296-300. Lien externe

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