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Réseau de collaborationCe graphique trace les liens entre tous les collaborateurs des publications de {} figurant sur cette page.
Chaque lien représente une collaboration sur la même publication. L'épaisseur du lien représente le nombre de collaborations.
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Lavoie, C., Purtell, R., Coïa, C., Detavernier, C., Desjardins, P., Jordan-Sweet, J., Cabral, C. J., & D'Heurle, F. M. (mai 2002). In situ monitoring of thin film reactions during rapid thermal annealing: nickel silicide formation [Communication écrite]. Rapid thermal and other short-time processing technologies III Electrochemical Society, Philadelphia, PA, USA. Lien externe
