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Documents dont l'auteur est "Richard, Nicholas"

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Salles, N., Richard, N., Mousseau, N., & Hemeryck, A. (2017). Strain-driven diffusion process during silicon oxidation investigated by coupling density functional theory and activation relaxation technique. Journal of Chemical Physics, 147(5), 054701 (9 pages). Lien externe

Liste produite: Sun Dec 22 04:51:00 2024 EST.