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Documents dont l'auteur est "Klemberg-Sapieha, Jolanta-Ewa"

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V

Varela, L. B., Avila, P. R. T., Miletić, A., Bousser, E., Mendez, J. M., Klemberg-Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2024). Residual stress depth profiles self-developed in cathodic arc deposited Ti-Al-N coatings prepared at different constant substrate bias values. Journal of Vacuum Science & Technology A, 42(4), 043104 (22 pages). Lien externe

Liste produite: Wed Jul 17 04:45:35 2024 EDT.