Documents dont l'auteur est "Aoki, T."
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Un nuage de mots est une représentation visuelle des mots les plus fréquemment utilisés dans un texte ou un ensemble de textes. Les mots apparaissent dans différentes tailles, la taille de chaque mot étant proportionnelle à sa fréquence d'apparition dans le texte. Plus un mot est utilisé fréquemment, plus il apparaît en grand dans le nuage de mots. Cette technique permet de visualiser rapidement les thèmes et les concepts les plus importants d'un texte.
Dans le contexte de cette page, le nuage de mots a été généré à partir des publications de l'auteur {}. Les mots présents dans ce nuage proviennent des titres, résumés et mots-clés des articles et travaux de recherche de cet auteur. En analysant ce nuage de mots, vous pouvez obtenir un aperçu des sujets et des domaines de recherche les plus récurrents et significatifs dans les travaux de cet auteur.Le nuage de mots est un outil utile pour identifier les tendances et les thèmes principaux dans un corpus de textes, facilitant ainsi la compréhension et l'analyse des contenus de manière visuelle et intuitive.
A
Abac, A. G., Abe, A., Abouelfettouh, I., Acernese, F., Ackley, K., Adam, A., Adhicary, S., Adhikari, D., Adhikari, R. X., Adkins, V. K., Afroz, S., Agapito, A., Agarwal, D., Agathos, M., Aggarwal, N., Aggarwal, S., Aguiar, O. D., Ahrend, I.-L., Aiello, L., ... Zucker, M. E. (2026). Constraints on ultralight bosons from merging binary and remnant black holes observed during the second and third parts of the fourth LIGO-Virgo-KAGRA observing run. Physical Review D, 103025 (28 pages). Lien externe
W
Wróbel, A. M., Blaszczyk, I., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Tracz, A., Sapieha, J.-E., Aoki, T., & Hatanaka, Y. (2003). Remote Hydrogen-Nitrogen Plasma Chemical Vapor Deposition From a Tetramethyldisilazane Source. Part 1. Mechanism of the Process, Structure and Surface Morphology of Deposited Amorphous Hydrogenated Silicon Carbonitride Films. Journal of Materials Chemistry, 13(4), 731-737. Lien externe
Wróbel, A. M., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Sapieha, J.-E., Hatanaka, Y., Aoki, T., & Nakanishi, Y. (2002). Remote Hydrogen Plasma Chemical Vapor Deposition of Silicon- Carbon Thin-Film Materials From a Hexamethyldisilane Source: Characterization of the Process and the Deposits. Journal of Applied Polymer Science, 86(6), 1445-1458. Lien externe